单晶硅基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法

一种稀土纳米薄膜在单晶硅上的自组装制备方 法，属于薄膜制备领域。本发明先将单晶硅片预处理，将处理 后的单晶硅片浸入配置好的稀土改性剂中，静置8小时，取出 后，用去离子水冲洗后，在室温中晾干后置于烘箱，于120℃ 保温1个小时，即获得稀土自组装纳米薄膜，其中，稀土改性 剂的组分重量百分比为：稀土化合物：3.5％～7％，乙醇含量： 65％～85％，乙二胺四乙酸：1％～4％，氯化铵：2％～5％， 尿素：10％～25％，浓盐酸：0.5％～1.5％。本发明工艺方法 简单，成本低，对环境无污染，制得的稀土纳米薄膜分部均匀， 成膜致密，且具有十分明显的减摩作用。此外稀土自组装膜还 具有良好的抗磨损性能。