稀土硫代氧化物激光陶瓷

一种稀土硫代氧化物激光陶瓷，其特征在于该激 光陶瓷的组成如下：基料为稀土硫代氧化物－ Re2O2S；激光激活离子Nd或Yb离子的掺杂浓度为0.1～10at ％；致密剂LiF或 Li2GeF6占0.1～10wt％，采用高温烧结而成。本发明稀土硫代氧 化物激光陶瓷不仅可以克服单晶体生长过程中难以避免的困 难，同时成本相当低，光学各向同性，掺杂离子在基质中分布 均匀，具有优异的热性能。由于具有特别高的发光效率，该类 材料在全固化、集成化的激光器中有着很好的应用前景。