一种利用激光退火提高掺稀土氧化铝薄膜光学特性的方法

本发明属于光通信技术中有源光放大器件领域， 具体涉及到一种利用激光退火对掺铒/铒镱共掺氧化铝薄膜进 行晶化的方法。其特征是利用低功率 CO2激光器对等离子体溅射方法 制备掺铒/铒、镱共掺氧化铝薄膜进行照射，退火效果通过调节 激光器工作功率和样品台位置与照射时间控制。本发明的效果 和益处是利用CO2激光束照射 在掺铒/铒、镱共掺氧化铝薄膜，在很短的时间内在薄膜表面产 生高温，提高氧化铝材料的晶化程度，从而可以大幅度地提高 氧化铝中铒的荧光谱强度。