稀土盐/氧化剂为基础的化学－机械抛光方法

本发明提供一种使用化学-机械抛光系统抛光具有金属层的基片的方法。化学-机械抛光系统包含研磨剂及/或抛光垫、稀土盐、比稀土盐更强的氧化剂以及液态载体。