高纯度镧、高纯度镧所构成之溅镀靶及高纯度镧作为主成分之金属闸膜

一种高纯度镧, 其特徵在於 : 稀土元素及气体成分除外之纯度在4N以上, 镧中之铝、铁及铜的含量分别在100wtppm以下; 以及一种高纯度镧, 其特徵在於 : 稀土元素及气体成分除外之纯度在4N以上, 镧中之铝、铁及铜的含量分别在100wtppm以下, 并且氧含量在1500wtppm以下, 硷金属及硷土金属之各元素的含量分别在1wtppm以下, 除上述以外之过渡金属及高熔点金属之各元素的含量分别在10wtppm以下, 放射性元素的含量分别在10wtppb以下。本发明之课题, 在於提供一种可有效率且稳定地提供高纯度镧、高纯度材料镧所构成之溅镀靶、及高纯度材料镧作为主成分之金属闸用薄膜的技术。