氮化硅烧结基板的制造方法

2022-05-31 1780 2393K 0
本发明提供一种氮化硅烧结基板的制造方法,包括:混合80质量%以上98.3质量%以下的Si3N4粉末、以氧化物换算计为0.7质量%以上10质量%以下的Mg化合物粉末和以氧化物换算计为1质量%以上10质量%以下的至少1种稀土元素的化合物粉末得到混合粉末的工序a;将混合粉末制成浆料并成型为多个生片的工序b;将多个生片隔着氮化硼粉末层叠层得到叠层组装体的工序c;和,将叠层组装体配置于烧结炉内并对叠层组装体进行烧结的工序d;在工序c中氮化硼粉末层的厚度为3μm以上20μm以下;工序d包括:在80Pa以下的真空气氛下保持900℃以上1300℃以下的气氛温度,从生片中除去碳的工序d1,和在工序d1之后在氮气氛下以1600℃以上2000℃以下的气氛温度使生片烧结的工序d2。


您还没有登录,请登录后查看详情



举报收藏 0打赏 0评论 0
本类推荐
下载排行
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  使用协议  |  版权隐私  |  网站地图  |  排名推广  |  广告服务  |  积分换礼  |  网站留言  |  RSS订阅  |  违规举报