一种低钴含量高强中导Cu-Ni-Co-Si系合金及其制备工艺

本发明采用机器学习方法设计了一种新型高强中导Cu‑Ni‑Co‑Si系合金及其制备方法，属于新材料设计与开发技术领域。开发的低钴含量Cu‑Ni‑Co‑Si系合金成分特征在于：Ni含量为1.50wt％～2.50wt％，Co含量为0.20wt％～0.49wt％，Si含量为0.50wt％～1.20wt％，Mg含量为0.05wt％～0.40wt％，Zn含量为0.05wt％～0.50wt％，余量Cu。根据需要，还可以添加Zr、Cr、Ca、Ti或稀土等一种或多种微合金化元素，以提升合金的使用性能。与现有Cu‑Ni‑Co‑Si系典型高性能合金C70350相比，本发明合金成分的主要特点包括：(1)超低Co含量，低于C70350合金Co含量下限的一半；(2)含有Mg、Zn合金元素，为六元或六元以上的复杂多元合金。所设计合金抗拉强度可达850～900MPa，断后伸长率为7.0％～10.0％，导电率为45％～55％IACS，适合大规模工业化生产与应用。