用於腔室盖与喷嘴上之稀土氧化物系涂层的离子辅助沉积

一种制造制品的方法，包括提供用于蚀刻反应器的盖子或喷嘴。 然后进行离子辅助沉积(IAD)以在盖子或喷嘴的至少一个表面上沉积保护层， 其中所述保护层是具有小于300m的厚度和10微英寸或更小的平均表面粗糙度的耐等离子体稀土氧化物膜。