高纯度镧之制造方法、高纯度镧、由高纯度镧构成之溅镀靶及以高纯度镧为主成分之金属闸膜

一种高纯度镧，不计稀土元素及气体成分之纯度在5N以上，α射线计数在0.001cph／cm 2 以下。一种高纯度镧之制造方法，於浴温450~700℃对不计气体成分之纯度在4N以下的粗镧金属原料进行熔盐电解，而得到镧结晶，接着在对该镧结晶进行除盐处理後，进行电子束熔解将挥发性物质去除，使不计稀土元素及气体成分的纯度在5N以上，α射线计数在0.001cph／cm 2 以下。课题在於提供一种如下之技术：可有效率且稳定地提供一种低α射线之高纯度镧、由高纯度材料镧构成之溅镀靶、及以高纯度材料镧为主成分之金属闸极用薄膜。