一种钕铁硼稀土永磁器件的复合镀膜设备及制造方法

本发明公开了一种钕铁硼稀土永磁器件的复合镀膜设备及制造方法，镀膜设备包括真空室、圆柱旋转阴极磁控靶、平面阴极磁控靶、圆柱或矩形阴极多弧离子靶、阳极层线性离子源、转架和料筐。工作时转架在真空室内公转，网状料筐两端有转轴安装在转架上即随着转架公转又自转。圆柱旋转磁控靶安装在真空室内转架内部，平面磁控靶、多弧离子靶、阳极层线性离子源和加热装置安装在真空室内转架的周围，复合镀膜共分3层，第一层为磁控溅射镀层，镀层厚度为：0.1-5μm，第二层为磁控溅射和多弧的混合镀层，镀层厚度为：1-15μm，第三层为磁控溅射镀层，镀层厚度为：0.1-5μm。采用复合镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序，不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力，同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。