稀土抛光粉及其制备方法

2022-07-18 3500 342K 0
本发明公开了一种稀土抛光粉及其制备方法,所述稀土抛光粉,其特征在于,包括如下重量百分比的组分:氧化硅6~10%,稀土氧化物90~94%。本发明的稀土抛光粉,不引入容易引起划伤、环境污染等的氟,保证了抛光的精度;通过对碳酸稀土预处理,得到了特定的晶型,确保了镧以固溶体的形式存在;通过二氧化硅的引入,抑制了抛光过程中氢氧化镧的形成。本发明具有生产效率高,成本低、无污染,抛光粉的耐磨性和抛光效率高等特定,适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密密器件的表面抛光加工。


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