高密度碳酸稀土高温爆裂法制备超细高铈稀土抛光粉的方法

一种高密度碳酸稀土高温爆裂法制备超细高铈稀土抛光粉的方法，按如下步骤：(1)将高密度碳酸稀土在900℃～950℃温度下进行爆裂分解10-60分钟，900℃～1050℃保温2～6小时；(2)得到超细稀土氧化物粉体经分级后得到超细稀土抛光粉，控制抛光粉粒度D50为100nm-300nm之间。本发明制备的抛光粉具有超细粒度，有较好的粒度分布和很好的悬浮性，原料来源广，可规模性生产超细稀土抛光粉，比水热法，溶胶-凝胶法、微乳液法等方法简单易行，易实现工业化生产，对光学玻璃、硅晶片、显示屏等材料的抛光可提高表面性能，在磁流变大型光学玻璃的抛光上，尤其显示出优越性。