一种高面型高粗糙度的光学器件抛光方法

本发明公开了一种高面型高粗糙度的光学器件抛光方法，涉及光学器件加工技术领域, 包括以下步骤：步骤一：制作抛光盘基底；步骤二：制作稀土抛光盘；步骤三：抛光盘仿形加工；步骤四：抛光盘磁流变精修；步骤五：光学器件抛光。本发明使用经过配比的稀土制作稀土抛光盘，根据待加工零件通过仿形加工出较高面型精度的抛光盘，使用磁流变抛光方式对抛光盘抛光，提高抛光盘的表面光洁度，再使用制作好的抛光盘对工件进行抛光，稀土抛光盘大大提高了抛光效率，经过仿形加工后的抛光盘也可提高工件的面型精度，完成对工件的抛光且兼顾工件的面型精度，对抛光工作人员要求较低，工作效率高，生产经济效益好。