一种精密光学器件抛光用阻尼布及其制备方法

本发明提供一种精密光学器件抛光用阻尼布的及其制备方法，涉及抛光技术领域，包括从上到下依次设置的阻尼布基材层、热熔胶层和固定磨料层，所述阻尼布基材层的厚度为0.2‑0.4mm，所述热熔胶层的厚度为0.02‑0.04mm，所述固定磨料层的厚度为0.2‑0.4mm；所述阻尼布基材层由内胶层、织物增强层和外胶层组成，所述织物增强层由聚酯纤维编织形成，所述内胶层和外胶层是涂覆在织物增强层上的聚氨酯；所述固定磨料层由以下重量百分数的原料组成：亚微米氧化铈50‑70％、氧化锆2‑5％、氧化铬5‑10％、稀土10‑15％、二氧化硅5‑10％、余量为钴，本发明不仅清理效率高，而且不容易对精密光学器件表面造成划伤，使用寿命长。